电容式触摸屏功能片制作工序3D示意图解

李星 原创 | 2011-05-26 09:52 | 收藏 | 投票

电容式触摸屏功能片制作工序3D示意图解

制作:李星xinglcd@126.com

在电容式触摸屏生产中,利用传统的精密集成电路生产方式进行生产的产品,在响应速度、精准度、功耗、使用寿命、产品性能稳定性和再现性等几方面,有比较好的表现。所以,电容式触摸屏在大多数设计成熟的品牌终端应用中,都会倾向于选用这种生产方式生产的产品。

传统的精密集成电路生产方式中,关键部分都是集中在这几个方面:产品由很多不同的材料,一层一层的沉积堆栈形成,有化学沉积、真空沉积等多种加工方式;不同功能材料层间的有不同的光罩进行曝光、显影、蚀刻加工出该层所需要的图案,以实现功能不同层功能材料、线路间的导通与遮蔽等。

因这种生产方式,光罩加工部分需要在黄光房里进行,所以俗称黄光制程。

在市面上出现的双面ITO、搭桥类、COVERLENS  ITO类等同样利用光罩加工出来的产品,所用的工艺与技术基本上跟这个相同,只是不同层间的材料选择与光罩图案设计上的差异而已。

下面是以一个电容式触摸屏功能单片为例,切开产品一角,按不同的工序进行的3D示意拆解图例。

1、用真空镀膜方式在玻璃基板上溅镀上底层ITO镀层:

2、利用旋涂方式,在ITO玻璃基板上,制作光刻胶层:

3、光刻胶平行曝光显影:

4ITO层蚀刻功能图案:

5、光刻胶层脱膜后,蚀刻好的ITO基板:

6、制作保护隔断层:

7、涂覆光刻胶:

8、隔断层图案曝光显影:

9、隔断层蚀刻:

10、光刻胶脱膜后的隔断层图案:

11、真空溅镀钼铝钼线路层:

12、涂覆光刻胶:

13、光刻胶曝光显影:

14、钼铝钼层线路蚀刻:

15、光刻胶脱膜后的钼铝钼线路层图案:

 

16、制作隔断保护层:

 17、光刻胶涂覆:

18、光刻胶曝光显影:

 19、隔断保护层蚀刻:

20、制作好的单面成品:

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专业液晶显示相关行业的企业技术与管理咨询顾问。提供液晶显示器、电容电阻触摸屏、背光源等相关企业的工场设计、新材料应用、新工艺技术导入、企业技术改造、产能效率提升等等服务。情绪成本研究。
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